重大突破我国新一代光刻机模型亮相，性能直追国际标杆

第九届进博会上海微电子（SMEE）展出 SSC800（KrF）、SSB800（I-line）新一代前道干式扫描投影光刻机透明剖视模型，这个模型是实物原型的结构展示件，对应的真机已经定型量产、在国内晶圆厂跑产线，成像、套刻精度、产能指标对标国际同类型干式光刻机标杆产品。这套平台覆盖 I-line、KrF 两条成熟制程光刻路线，高精度物镜、照明系统、高速双工件台、掩模台、自动物料传输、对准传感全部自主研发，关键零部件国产化率突破 90%；真机在国内头部逻辑、存储产线稳定运行，累计流片超过千万片，设备有效运行率 92% 以上，主要用于成熟制程芯片制造，不是 EUV 光刻机。

机型信息对照表

核心技术亮点清单

1. 自研双工件台架构，搭配国产大 NA 物镜，套刻精度、扫描效率看齐国际同类干式机型。
2. 整机光路、机械、传感、物料传输系统全链路自主可控，供应链自主度高。
3. 已经批量交付晶圆厂，不是实验室样机，具备量产稳定性。
4. 透明剖视模型的作用：直观展示内部光路、机电布局，方便行业交流科普，本身不能曝光生产晶圆。
5. 适用场景：功率器件、MEMS、部分成熟逻辑、存储芯片光刻工艺。

边界说明（重点避坑）

1. 本次是干式 DUV 光刻机，不是 EUV 极紫外光刻机，不支持先进制程。
2. 对标对象是国际 KrF/I-line 干式光刻机，不是 ASML 的 EUV、高 NA 机型。
3. 国产 ArF 浸没式、EUV 光刻机仍处在研发验证阶段，本次展出不涉及这两类。
4. 光刻机只是芯片制造一环，配套刻蚀、沉积、检测设备同样需要协同。

【相关 FAQ】

问题 1：这次亮相的新一代光刻机模型是 EUV 光刻机吗？

回答 1：不是，本次上海微电子展出的是 KrF、I-line 干式 DUV 光刻机的剖视模型，对应的真机是成熟制程干式机型，并非 EUV 极紫外光刻机。

问题 2：SSC800 光刻机国产化率多少，有没有在产线使用？

回答 2：SSC800 关键零部件国产化率突破 90%，设备已经定型量产，在国内头部逻辑、存储产线长期运行，累计流片超千万片，运行率超 92%。

问题 3：展出的光刻机模型能不能直接用来生产芯片？

回答 3：这个透明剖视模型只用来展示内部光路与机械结构，属于展示教具，不具备曝光光刻能力；真正流片生产的是同型号的实体光刻机整机。

问题 4：这款光刻机性能直追国际标杆，对标哪一类设备？

回答 4：它对标国际上同类型 KrF、I-line 干式扫描投影光刻机，套刻精度、产能、成像指标达到国际同类干式机型第一梯队水平，和 EUV 不属于同一赛道。

【参考资料】

[2026-11-08]（重大突破！我国新一代光刻机模型亮相进博会）中国青年网

[2026-11-08]（上海微电子 SSC800、SSB800 光刻机进博会展出）21 世纪经济报道

[2026-11-07]（SMEE 新一代前道光刻装备平台介绍）中国电子报

[2026-11-08]（国产 KrF 光刻机流片数据解读）上海证券报

【免责声明】

本文信息基于进博会公开报道、上海微电子官方发布内容整理；该机型为成熟制程干式 DUV 设备，相关技术进展、产能规划以上海微电子后续官方公告为准，本文不构成半导体行业投资建议。