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长鑫 HBM3E 完成客户送样 产品良率突破 20%

2026-10-29 15:39:30 来源:网易 编辑:堵宏茂 

长鑫自主研发的 HBM3E 高带宽内存芯片已经正式向国内多家 AI 芯片企业完成送样测试,现阶段产品良率稳定突破 20%,整个项目从立项研发、晶圆制造、多层堆叠封装再到样品测试,都按照既定技术路线稳步推进,研发团队持续优化 TSV 硅通孔工艺与多层键合技术,不断缩小和国际头部厂商的技术差距,稳步推进小批量试产计划,为国产 AI 算力供应链补齐高端内存环节打下坚实基础。

一、HBM3E 产品当前核心进展

  1. 样品交付进度 长鑫 HBM3E 已经完成多批次工程样片的制作,顺利交付给国内主流 AI 芯片设计企业开展兼容性测试,客户正在针对芯片带宽、功耗、稳定性进行全场景验证,后续将根据测试结果持续优化工艺参数,为后续量产做好准备。
  2. 良率提升成果 当前 HBM3E 产品整体良率已经稳定超过 20%,这是国产高端 HBM 芯片在多层堆叠工艺上取得的阶段性突破。研发团队针对晶圆翘曲、多层键合缺陷等难点持续优化生产流程,后续随着工艺持续打磨,良率还会稳步向上攀升。
  3. 技术研发投入 长鑫从 2024 年就启动 HBM3E 项目研发,集中资源攻克垂直堆叠、硅通孔、高温封装等核心技术,依托国内成熟的晶圆制造与先进封装产业链,稳步推进产品迭代,走出一条自主可控的高端存储芯片研发路线。

二、产品量产规划清单

表格

项目详细信息
产品型号HBM3E 高带宽内存
当前阶段工程样品送样、客户测试阶段
当前良率稳定突破 20%
下一步计划两个月内启动小批量试产
应用场景AI 大模型训练服务器、高性能算力卡

三、工艺优化核心步骤

第一步,优化晶圆制造工艺,提升基础裸晶的良品水平,减少底层晶圆本身的缺陷问题;

第二步,升级 TSV 硅通孔制造工艺,提升通孔精度与电镀稳定性,保障多层芯片互联的可靠性;

第三步,改进多层堆叠键合工艺,控制热应力带来的芯片开裂、翘曲问题,进一步拉高堆叠环节良率;

第四步,搭建专属测试平台,完成带宽、延迟、高温稳定性全项检测,保障交付样品符合 AI 服务器使用标准。

【相关 FAQ】

问题 1:长鑫 HBM3E 已经完成送样,现阶段这款芯片良率达到多少?

回答 1:长鑫 HBM3E 目前已经顺利向国内 AI 企业送样,现阶段产品良率稳定突破 20%,后续还会通过工艺优化持续提升良率水平。

问题 2:长鑫 HBM3E 送样之后,下一步会推进哪个生产环节?

回答 2:在完成客户样品测试之后,长鑫计划在两个月之内启动 HBM3E 的小批量试产,逐步打通从样品到量产的全流程。

问题 3:长鑫 HBM3E 主要面向哪些硬件设备使用?

回答 3:长鑫 HBM3E 属于高带宽内存芯片,主要配套 AI 大模型训练服务器、高性能算力显卡,用来满足国产算力基础设施的内存配套需求。

【数据来源】

[2026-10-28](知情人士:长鑫科技将启动先进 AI 内存芯片生产)中国新闻网

[2026-10-28](长鑫 HBM3E 送样测试,开启小批量生产筹备)路透社中文资讯

[2026-09-07](长鑫 HBM 产品迭代进度跟踪)南方都市报

[2026-06-25](国产 HBM 堆叠工艺难点与良率提升方案)芯智讯

免责声明:本文内容均来自公开行业资讯与企业研发进度信息,产品良率、量产时间会随着工艺迭代持续调整,最终量产参数以长鑫科技官方发布信息为准。

 
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