首页 >> 综合 > 快讯 >

一图看懂内存路线图长鑫率先量产4F2、3DRAM是终局

2026-11-12 21:27:00 来源:网易 编辑:谢力行 

标题:一图看懂内存路线图,长鑫率先推进 4F² 量产,行业普遍认为 3D DRAM 为终局

DRAM 的长期演进路线已经形成比较清晰的共识,现在行业主流还在用 6F² 平面架构,长鑫是全球率先推进 4F² DRAM 落地的厂商,计划在 2026 年底推出搭载自研 VSG 垂直环绕栅晶体管的 4F² DDR5 RDIMM,把平面 DRAM 的单元密度推到二维架构的上限;但绝大多数产业分析师和存储大厂都认定,4F² 只是过渡方案,等到平面微缩走到物理天花板之后,类似 3D NAND 的多层堆叠式 3D DRAM,才是内存技术长期的终局方向,不同厂商也分成两条路线,长鑫、三星、SK 海力士选择先走 4F² 过渡再转向堆叠,美光则倾向跳过 4F²,直接押注未来的 3D DRAM,整条路线图里面,4F² 解决短期密度提升,3D DRAM 打开未来几十年持续扩容的空间。

一、基础概念释义

  • F:最小特征尺寸,代表光刻能实现的最小线宽。
  • 6F²(当前主流):现在消费级、服务器 DRAM 通用架构,单个存储单元占用 3F × 2F,工艺成熟、良率稳定。
  • 4F²(平面 DRAM 终点):单元压缩至 2F × 2F,理论单元面积减少大约 33%,同一片晶圆能够产出更多芯片,密度提升 30%–50%,需要把晶体管改为垂直结构,也就是长鑫自研的 VSG 垂直包围栅。
  • 3D DRAM(常被俗称 3DRAM):不再在平面上硬挤,沿着 Z 轴多层堆叠存储单元,和闪存的 3D NAND 思路一致,被看作突破二维物理极限的最终方案。
技术阶段定位核心特点主要玩家节奏
6F² DRAM当前量产主力水平晶体管,良率高、成本可控全部存储大厂正在大规模出货
4F² DRAM平面架构收官过渡垂直栅晶体管,二维密度上限长鑫率先送样 / 小批量;三星 2028 计划量产;SK 海力士同步研发
3D DRAM行业终局路线Z 轴多层堆叠,摆脱平面微缩瓶颈各家长期预研,预计 2030 年后逐步落地

二、长鑫 4F² DRAM 核心技术细节

  • 核心器件:VSG 垂直环绕栅晶体管,栅极完整包裹垂直沟道,大幅抑制漏电、短沟道效应,这是 4F² 能够落地最关键的一环。
  • 专利储备:长鑫从创立之初启动研发,公开相关专利族超过 300 件,国内最早发布 4F² 方向学术论文。
  • 产品规划:首发面向服务器的 DDR5 RDIMM,搭配混合键合工艺,依托已经量产的 G5 工艺平台作为制造基础。
  • 现实约束:年底优先是送样、小批量验证,想要做到消费级普及、大规模放量,还需要持续打磨良率,整套工艺无法沿用老 6F² 的产线流程。

三、全球存储厂商路线分歧

  • 长鑫、三星、SK 海力士:双线并行
  • 美光:偏向跳过渡路线

先走 4F² 垂直栅拿到密度红利,同步投入 3D DRAM 堆叠预研;4F² 用来衔接当下,3D DRAM 留给长期。

认为就算改成 4F²,电容间距依然很难持续压缩,工艺成本上涨会吃掉密度带来的收益,更倾向直接布局 3D DRAM,不过也保留 4F² 的技术储备。

四、为什么说 3D DRAM 被视作终局

平面 DRAM 越往更小节点走,电容、漏电、光刻、蚀刻的矛盾会急剧放大,哪怕改成垂直晶体管的 4F²,二维方向依然存在无法突破的物理边界;3D DRAM 通过垂直堆叠多层存储阵列,可以依靠增加层数持续拉高容量,不用疯狂挤压平面上的最小线宽,从底层绕开传统 DRAM 的微缩瓶颈,非常适配 AI 服务器对超大内存容量的需求,缺点是工艺极其复杂,需要全新设备、材料与堆叠键合方案,距离大规模商用还有很长周期。

五、整条内存路线演进时间线

  • 当下:6F² 持续迭代,长鑫 G5 平台量产,LPDDR5X、DDR5 放量。
  • 2026 年底:长鑫推出 4F² 架构 DDR5 RDIMM 样品,开启全球 4F² 的落地验证。
  • 2027–2029:4F² 逐步爬坡,良率优化,可能进入服务器小规模商用。
  • 2030 之后:行业逐步转向 3D DRAM,成为下一代主流内存架构。

【相关 FAQ】

问题 1:在这张内存路线图里面,为什么说长鑫率先推进 4F² DRAM?

回答 1:在内存路线图里,长鑫率先推进 4F² DRAM,已经官宣预计 2026 年底推出搭载自研 VSG 垂直环绕栅的 4F² DDR5 RDIMM,早于三星、SK 海力士计划的量产时间,是全球最先落地这条路线的厂商。

问题 2:内存路线图里面,4F² DRAM 和 3D DRAM 有什么定位差别?

回答 2:内存路线图中,4F² DRAM 属于平面架构的最后一步过渡方案,依靠垂直晶体管提升二维密度;3D DRAM 也就是俗称的 3DRAM,依靠垂直多层堆叠突破平面物理极限,被业内认定是内存长期终局方向。

问题 3:长鑫 4F² DRAM 使用的 VSG 垂直环绕栅,能解决哪些 DRAM 痛点?

回答 3:长鑫 4F² DRAM 的 VSG 垂直环绕栅晶体管,栅极包裹垂直沟道,能够强化栅控能力,缓解制程缩小带来的短沟道效应,降低电荷漏电,是实现 4F² 高密度单元的核心基础。

问题 4:按照内存路线图,是不是意味着 4F² DRAM 很快就会替换现在普通消费内存?

回答 4:按照内存路线图,4F² DRAM 优先面向服务器市场做小批量验证,整套工艺难度很高,良率、成本还需要打磨,短期不会大规模替换市面上主流的 6F² 消费级内存。

【参考资料】

[2026-11-06](长鑫存储 4F² 与美光 3D DRAM 正面 PK)搜狐

[2026-11-01](DRAM 技术,走到岔路口)36 氪

[2026-10-22](长鑫 4F² 架构突破,美光为何选择不跟进)证券时报

[2026-10-10](长鑫科技官宣!4F² DRAM 架构取得进展)新浪财经

[2026-09-20](长鑫存储第五代技术平台正式量产)长鑫存储官网

[2025-06-09](SK hynix Presents Future DRAM Technology Roadmap)SK 海力士新闻中心

【免责声明】

内存路线图的技术节点、量产时间为厂商公开规划与行业机构预测,存在延期、调整的可能性;4F² 当前以样品、小批量验证为主,不等于大规模商用;3D DRAM 还处在预研阶段,最终落地形态、成本、时间表仍存在不确定性;密度提升数据为理论测算值,实际良率、容量、功耗受设备与材料影响,全部技术判断以存储厂商后续正式公告为准。

 
最新文章
站长推荐