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黄仁勋:中国2030年或可突破先进光刻机

2026-09-15 14:00:13 来源: 编辑:邹朋真 

9月15日消息,ASML是当前唯一能量产EUV光刻机的公司,欧美限制国内芯片产业也是靠限制ASML供应,但黄仁勋判断中国公司在2030年就能搞定先进光刻机。在日前的All-In峰会上判断,NVIDIA CEO黄仁勋回应了主持人提问的中国什么时候能搞定先进光刻机,黄仁勋判断中国到2030年就能做出自己的先进光刻系统。相比之下,黄仁勋的判断更乐观,不过这两个回答之间也没有可比性,蔡司回应的是EUV,黄仁勋说的是先进光刻机,EUV当然是先进光刻机,但DUV依然也是先进光刻机,2030年也不会落伍,重要性也不会因为EUV量产了就降低,两种技术是独立的生态。

 
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